15KW碟型腔4英寸单晶多晶生长直径的MPCVD设备，101颗7*7mm晶种

微波功率调节连续平缓，沉积温度可以连续稳定变化。

沉积反应室的结构调整，沉积腔中产生大面积又稳定的等离子体球可以大面积均匀沉积。

适应不同尺寸和形状的衬底，较高的灵活性,通过调整工艺参数，如高硬度、高热导率、高透光性等。

通过升级或扩展来实现更大规模的生产,提高了设备的利用率和****率。